カナダのApplied Quantum Materials社は、シリコンナノ材料の研究開発に注力しています。同社が出展した展示会では、量子ドットなどのシリコンをベースにしたナノ材料が注目されました。特に、HSQまたはハイドロゲン化シリコンオキシドとしても知られるフォトレジストについて話題が集まりました。このフォトレジストはリソグラフィーに使用され、7ナノメートル以下の超小型フィーチャーサイズを実現できます。また、コンフォーマルコーティングやスピンオン誘電体としても利用できる特徴があります。Applied Quantum Materials社の研究成果は、シリコンナノ材料の応用において重要な進展を示しています。Generated by OpenAI

Webサイト:https://www.aqmaterials.com/